机译:用于隔热应用的原子层沉积钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜的低导热率
Kyung Hee Univ Dept Mech Engn 1732 Deogyeong Daero Yongin 17104 Gyeonggi Do South Korea;
Stanford Univ Dept Mat Sci &
Engn Stanford CA 94305 USA;
Seoul Natl Univ Sci &
Technol Mfg Syst &
Design Engn Programme Seoul 139743 South Korea;
Yttria-stabilized zirconia (YSZ); Atomic layer deposition; Thermal insulation applications; Thermal conductivity; Time-domain thermoreflectance;
机译:用于隔热应用的原子层沉积钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜的低导热率
机译:低温热等离子体原子层联合沉积工艺制备的Al_2O_3薄膜
机译:用原子层沉积在高表面多孔钇稳定的氧化锆薄膜上沉积的半涂层的外延生长和结构表征
机译:通过MOCVD进行氧化钇稳定的氧化锆薄膜,用于注射成型中的热屏障和保护应用
机译:各种氧化物薄膜原子层沉积和热原子层蚀刻工艺的机械研究
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:通过金属有机化学气相沉积生长的纳米晶氧化钇稳定的氧化锆薄膜的晶粒尺寸依赖的热导率
机译:用于热和环境屏障涂层的化学气相沉积氧化钇稳定氧化锆(YsZ)