首页> 外文期刊>Порошковая Металлургия >Окисление пористого нанокристаллического нитрида титана. III. Механизм окисления
【24h】

Окисление пористого нанокристаллического нитрида титана. III. Механизм окисления

机译:多孔纳米晶氮化钛的氧化。 III。 氧化机制

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Изучен механизм окисления на воздухе нанокристаллического TiN (пористость 12%) в интервале 500-900°C. Показано, что при t ≤ 800°C процесс окисленияконтролируется диффузией кислорода, а при t > 800°C появляется также встречная диффузия титана. Особенности механизма окисления определяются химическим взаимодействием кослорода с реакционной поверхностью, которая включает в себя как внешнюю (геометрическую) поверхность образца, так и внутреннюю поверхность тех пор, в которые проникает кислород. Активное начальное окисление обусловлено взаимодействием кислорода с большой внутренней поверхностью. При этом также возможен кратковременный саморазогрев пористых образцов, При t ≤ 800°C вследствие зарастания пор оксидами со временем внутренняя реакционная поверхность уменьшается, формируется сплошная внешняя оксидная пленка, диффузия кислорода тормозится, прирост массы образца замедляется - наступает стабилизация, С повышением температуры эти процессы активизируются, отчего на конечной стадии (2-4 ч) при 800°C привес оказывается меньшим, чем при 600°C, При t >800°C скорость зарастания пор повышается, однако благодаря взаимодействию кислорода с ионами титана, продиффундировавшими на внешнюю поверхность окалины, привес непрерывно возрастает с увеличением как времени, так и температуры окисления. Фазовый состав окалины также влияет на механизм окисления TiN. Защитную роль играет оксинитрид предельного состава; превращение анатаза в рутил сопровождается снижением скорости диффузии кислорода в решетке диоксида титана; появление в порах оксида Ti{sub}2O{sub}3 ускоряет процессы их зарастания.
机译:在500-900℃的范围内研究纳米晶锡的空气中氧化机理(孔隙率为12%)。结果表明,在T≤800℃下,氧化过程控制氧的扩散,并且在T> 800℃下,出现钛的计数器扩散。氧化机理的特征通过杆的具有反应表面的棒的化学相互作用确定,该反应表面包括样品的外(几何)表面和氧气渗透的孔的内表面。主动初始氧化是由于氧与大内表面的相互作用。在这种情况下,由于随着时间的推移内反应表面降低,在T≤800℃下,在T≤800℃下,形成固体外氧化膜,氧的扩散,在T≤800℃下,也可以在T≤800℃下进行多孔样品。抑制,样品质量的增加减缓 - 稳定,随着温度的增加,这些过程被激活。为什么在800°C的最后阶段(2-4小时),技能结果将小于600 °C,在T> 800℃下,孔的过度生长速率增加,然而,由于氧与钛离子的相互作用,该氧化率的尺度外表面,桥接随着时间的增加而连续增加和氧化温度。标度的相组成也影响锡氧化机制。保护作用扮演极端的氧氮化物;金红石中锐钛矿的转化伴随着二氧化钛晶格中氧的扩散速率下降; Ti {Sub} 2O {Sub} 3氧化物的孔隙的外观加速了其过度生长的过程。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号