高純度7ルミニウム箔の立方体集合組織に及ぼす部分焼なまし口軽圧延処理の繰返」の影響

摘要

電解コンデンサ用高純度アルミニウムにおいて，部分焼なましおよび軽圧延処理のサイクルを繰返したときの立方体集合組織についてⅩ線回折，陽極酸化後の偏光顕微鏡観察，すべり帯観察によって検討した結果をまとめると以下になる。 部分焼なましおよび軽圧延処理のサイクルを繰返すと,立方体集合組織は徐々に強くなると同時にR方位の再結噸の生成ほ抑制される。 繰返し数3回により，ほぼ立方体方憶粒だけの組織が得られた。 これらは軽圧延された立方体方柱粒が回復しやすく，立方体方位粒の成長サイトとなることミ′ミよる。 軽圧延された立方体方位粒が立方体方位粒の成長サイ下どなるごとほ，すべり帯の観察によって確かめられた。 　 終わりに，本研究ほ軽金属学会研究部会「粒界近傍の材登物性部会」の共通試料を用いて行われたことを付記する。