首页> 外文期刊>ПЕРСПЕКТИВНЫЕ МАТЕРИАЛЫ >Влияние облучения высокоэнергетическими электронами на адгезию вольфрамовой плёнки к кремниевой подложке
【24h】

Влияние облучения высокоэнергетическими электронами на адгезию вольфрамовой плёнки к кремниевой подложке

机译:暴露于高能电子对钨膜粘附到硅衬底的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Используя метод неразрушающего контроля адгезии границы контакта плёнка - подложка по величине тепловой проводимости α_(12), проведено исследование изменения α_(12) для системы вольфрамовая плёнка (0,8 мкм) - кремниевая подложка (0,7 мм) после облучения высокоэнергетическими электронами. Показано, что облучение приводит к увеличению тепловой проводимости границы раздела и улучшению адгезионных характеристик.
机译:使用非破坏性控制的方法对接触膜边界的粘附性 - 导热率α_(12)的大小的基板,钨膜系统(0.8μm)的α_(12)的变化是a暴露于高能电子后硅衬底(0.7mm)。 结果表明,照射导致分隔边界的导热率和粘合特性的提高。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号