首页> 外文期刊>ПЕРСПЕКТИВНЫЕ МАТЕРИАЛЫ >Изменение структуры электролитического и технического ванадия при электронном облучении
【24h】

Изменение структуры электролитического и технического ванадия при электронном облучении

机译:在电子照射过程中改变电解和技术钒的结构

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Приведены результаты электронно-микроскопических исследований образования и роста дислокационных петель междоузельного типа и фазовой стабильности ванадия электролитической и технической чистоты, облученных электронами с энергией 1 и 2,2 МэВ. Интенсивность облучения ванадия электролитической чистоты с энергией 1 МэВ составляла 4.42X10~(22) и 6,15X10~(22) м~(-2)с~(-1). Для ванадия технической чистоты интенсивность облучения электронами с энергией 2,2 МэВ была равна 1X10~(18) м~(-2)с~(-1), а с энергией 1 МэВ - 6,15X10~(22) м~(-2)с~(-1). На основе анализа экспериментальных данных показано, что параметры зарождения и роста дислокационных петель в ванадии и его фазовая стабильность существенно зависят от его чистоты и скорости введения радиационных точечных дефектов.
机译:给出了间质型脱位环的形成和生长的电子显微镜研究以及用能量1和2.2MeV照射电子照射的电解和技术纯度的钒的相位稳定性。电解纯度钒的辐照强度与能量1 meV为4.42×10〜(22)和6.15×10〜(22)m〜(-2),〜(1)。对于技术纯度的钒,具有2.2 meV能量的电子照射的强度等于1×10〜(18)m〜(-2),〜(-1),能量1 mev - 6.15x10〜(22 )M〜(2)与〜(-1)。基于对实验数据的分析,表明钒脱位环的起源和生长的参数及其相位稳定性基本上取决于其纯度和引入辐射点缺陷的速率。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号