Магнетронное распыление импульсами постоянного тока

摘要

Обзор современных методов магнетронного распыления импульсами постоянного тока, плотность мощности в которых на два порядка выше, чем в непрерывном магнетронном разряде. Преимуществом такого способа является возможность инициирования высокоионизованных потоков, обеспечивающих реализацию ионно-активированного режима осаждения покрытий. Варьируя пиковую мощность, продолжительность и частоту следования импульсов, можно получать потоки осаждаемых атомов, близкие по энергетическим параметрам к потокам, формируемым при использовании дуговых испарителей. Модулирование одиночных импульсов стабилизирует процессы формирования и развития сильноточных разрядов. Недостаточно высокую скорость осаждения покрытий можно увеличить путем изменения конфигурации магнитного поля магнетрона. Применение импульсного режима при реактивном напылении в разрядах постоянного тока решает проблему дугообразования и, таким образом, повышает качество осажденных покрытий.