ВЛИЯНИЕ У-ИЗЛУЧЕНИЯ НА СВОЙСТВА ВИСМУТСИЛИКАТНЫХ СТЕКОЛ И СТЕКЛОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ, СОДЕРЖАЩИХ Р_2O_5

摘要

Висмутсиликатные стекла, состав которых совпадает с составом минерала силикоэвли-тина (Вi_4Si_3O_(12)), перспективны для использования в качестве сцинтилляционных материалов при изготовлении у-детекторов [1-3]. Добавление оксида фосфора в шихту указанного состава позволяет повысить технологичность таких стекол вследствие снижения температуры их плавления и уменьшения вязкости расплавов. Немаловажно и то, что наличие в шихте оксида фосфора повышает способность стекол к кристаллизации [4]. Поскольку необходимым условием обеспечения возможности применения материала в метрологии высокоэнергетических излучений является его устойчивость к воздействию излучения, данная работа посвящена изучению воздействия у-излучения на физико-химические свойства полученных образцов и определению времени их релаксации после облучения.