ПЛАЗМОСТИМУЛИРОВАННОЕ ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ ИЗ ТРИМЕТИЛ(ФЕНИЛАМИНО)СИЛАНА

摘要

Разработан процесс синтеза нанокристаллических пленок карбонитрида кремния с помощью плазмохимического разложения нового кремнийорганиче-ского реагента - триметил(фениламино)силана (Ме3SiNНPh). Синтез осуществлялся из газовых смесей Me3SiNHPh + Не, Ме3SiNНРh + N2 и Me3SiNHPh + NH3 в широком диапазоне температур (473-973 К) при пониженном давлении в реакторе (4-5). 10~(-2) Торр. В качестве подложек использовались полированные пластины Si(100), Ge(111) и кварцевого стекла. Методами ИК, КР и энергодисперсионной спектроскопии (ЭДС), атомно-силовой (АСМ) и растровой электронной микроскопии (РЭМ), эллипсометрии, спектрофотометрии изучено изменение химического и фазового составов, морфологии поверхности и оптических свойств карбонитрида кремния от температуры синтеза.