Описывается комбинированная установка РИТМ-СП, предназначенная для формирования тонких слоев сплавов на поверхности образца в едином вакуумном цикле (in situ). В состав установки входят источник низкоэнергетических (10-30 кэВ) сильноточных (до 25 кА) импульсных (2-4 мкс) электронных пучков и магнетронный распылитель, смонтированный вместе с электронной пушкой источника на общей вакуумной рабочей камере. Камера снабжена манипулятором, позволяющим перемещать рабочий стол с образцами без нарушения вакуума. Установка имеет автоматизированную систему управления откачкой, напуском рабочего газа, блоками питания и синхронизации импульсных процессов при генерации пучка, нанесением пленок, перемещением образца и т.д. Для иллюстрации работы установки приведены результаты эксперимента по формированию поверхностного сплава для системы Ni-Cu.
展开▼
