Метод оценки толщины ультратонких пленок

摘要

Описан метод определения при помощи атомно-силового микроскопа толщины ультратонких (<10 нм) пленок. Пленки осаждались на пористую, с гладкими участками поверхности между пор, стеклянную подложку при падении потока напыляемого материала под углом в 20°-30° относительно нормали к поверхности подложки. Для получения пор с острыми кромками поверхность подложки предварительно распылялась пучком ионов кислорода, ориентированным под углом 90° к поверхности подложки. На атомно-силовых изображениях поверхности полученных таким образом пленок отчетливо фиксируется положение границы "кромка поры - пленка ", что дает возможность оценить толщину пленки по высоте ступеньки между кромкой поры и поверхностью пленки на поперечном сечении рельефа поверхности.