ГАЗОРАЗРЯДНЫЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ ДЛЯ МОДИФИКАЦИИ ПОТЕНЦИАЛА НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА

摘要

Описан газоразрядный источник низкотемпературной плазмы с концентрацией заряженных частиц 10{sup}11-10{sup}13 м{sup}(-3). Приведены рабочие характеристики источника. Экспериментально подтверждена эффективность применения источника для "мягкой" беспробойной нейтрализации избыточного заряда на поверхности и в объеме диэлектрического материала.