ОЦЕНКА ПРЕДЕЛЬНО ДОПУСТИМОГО УГЛА ОТКЛОНЕНИЯ КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКОЙ ПЛОСКОСТИ (hkl) ОТ ЗАДАННОЙ ГЕОМЕТРИЧЕСКОЙ ПЛОСКОСТИ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО ОБРАЗЦА ПРИ ЕГО ОПРЕДЕЛЕНИИ ПО СТАНДАРТНОЙ МЕТОДИКЕ

摘要

В полупроводниковой отрасли для производства и контроля ориентированных подложек используют стандартную рентгеновскую методику определения угла отклонения (γ) кристаллографической плоскости (hkl) от заданной геометрической плоскости монокристаллического образца.