首页> 外文期刊>Журнал технической физики >ФОРМИРОВАНИЕ СИЛИЦИДОВ В ДВУХСЛОЙНЫХ СВЕРХТОНКИХ ПЛЕНКАХ ЖЕЛЕЗА И КОБАЛЬТА НА КРЕМНИИ
【24h】

ФОРМИРОВАНИЕ СИЛИЦИДОВ В ДВУХСЛОЙНЫХ СВЕРХТОНКИХ ПЛЕНКАХ ЖЕЛЕЗА И КОБАЛЬТА НА КРЕМНИИ

机译:两层超细腺体中硅化物的形成硅

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Исследованы процессы, протекающие в сверхтонких (до 1 nm) слоях Fe и Co при их нанесении на поверхность Si(100)2x1 в разной последовательности, а также при отжиге сформированных структур до температуры ~400°С. Анализ элементного и химического составов пленок проводился in situ методом фотоэлектронной спектроскопии высокого энергетического разрешения с использованием синхротронного излучения, а их магнитные свойства исследовались с помощью эффекта магнитного линейного дихроизма в угловом распределении Co 3p- и Fe 3p-электронов. Показано, что в случае первоначального напыления железа формируется структура, состоящая из слоев FeSi, Fe3Si, твердого раствора Co-Si и металлического кобальта с сегрегированным кремнием. В альтернативном случае образуется структура, включающая в себя слои CoSi, твердого раствора Co-Si, Со, раствора Fe-Si и пленки Fe, частично покрытой кремнием. Все указанные слои (кроме FeSi и CoSi) образуют единые магнитные системы, характеризуемые ферромагнитным упорядочением. Отжиг образцов при температурах выше 130°С (для системы Co/Fe/Si) и ~200°С (для Fe/Co/Si) приводит к формированию немагнитных бинарных и тройных силицидов (Fe_xCo_(1-x)Si и Fe_xCo_(2-x)Si).
机译:当施加到不同序列中的表面Si(100)2x1时,研究流动的过薄(高达1nm)层Fe和Co的方法,以及所形成的结构的退火到400°C的温度。通过使用同步辐射辐射的高能量分辨率的光电子光谱法原位对膜的元素和化学组成的分析,并使用CO 3P的角分布中的磁性线性二分效应研究了它们的磁性。 Fe 3P电子。结果表明,在初始喷涂铁的情况下,由FeSi,Fe3Si层,Co-Si的固体溶液和具有隔离硅的金属钴的固溶体组成的结构。或者,形成结构,其包括Cosi层,Co-Si,Co,Fe-Si溶液和Fe膜的固体溶液,部分涂覆有硅。所有指定的图层(FESI和CISI除外)形成由铁磁排序为特征的单磁系统。在130℃(CO / Fe / Si)以上的温度下的退火样品和〜200℃(对于Fe / CO / Si)导致形成非磁性二元和三倍硅化物(Fe_xco_(1-x)Si和fe_xco_(2 -x)si)。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号