Представлены результаты исследований вольтамперных характеристик, пространственных и временных параметров плазмы сильноточной импульсной магнетронной распылительной системы с плоским дисковым катодом диаметром 10 см. Показано, что плотность плазмы превышает значения, характерные для постоянного магнетронного разряда, на три порядка и достигает 10~(13) см~(-3) на расстояниях до 250 мм от катода, при пиковом токе разряда около 500 А. Скорость распространения плазмы из прикатодной области составляет 1 см/мкс в аксиальном направлении, и 0.25 см/мкс в радиальном. Методами оптической эмиссионной спектроскопии зафиксировано многократное повышение степени ионизации плазмы с ростом пикового тока разряда, причем, преимущественно за счет распыляемого материала.
展开▼
