4.短波長光源の駆動に最適化された高輝度?高平均出力レーザー技術の研究開発動向

摘要

レーザー生成プラズマを利用したEUVリソグラフイ光源では,基本要素の一っとしてピコ秒固体レーザーが使われている.このピコ秒レーザーは,10ミクロンサイズの錫ドロプレットをナノ秒パルス炭酸ガスレーザー光の吸収の最適化のために均一にクラスターに分散する役割を担っている.レーザーの性能としては繰り返しが100 kHz以上のピコ秒パルスを100 W以上の高平均出力で,かっ数μメーターの空間安定性を保証するとともに10ミクロンドロプレットヘの集光が可能なビーム品質が求められている.このような性能を満たす固体レーザーの実現には最新の固体レーザー技術を採用して,かっ十分な最適化を行うことが必要であり,現在チェコ共和国で進展しているレーザー研究プロジェクト"HiLase"でのデイスクレーザーによる実施例を中心に紹介する.10 kW級100 kHz繰り返しナノ秒炭酸ガスレーザーにっいては研究開発の経緯と実施例にっいて概要を紹介する.