...
首页> 外文期刊>УПРОЧНЯЮЩИЕ ТЕХНОЛОГИИ И ПОКРЫТИЯ >Особенности формирования диоксида кремния реактивным высокочастотным магнетронным распылением на установке ВУП-11М
【24h】

Особенности формирования диоксида кремния реактивным высокочастотным магнетронным распылением на установке ВУП-11М

机译:通过无功高频磁控磁控喷涂在PPE-11M安装中形成二氧化硅的特征

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Проведено моделирование процесса реактивного высокочастотного (ВЧ) магнетронного распыления кремния в среде аргона и кислорода. Теоретически обоснованы взаимосвязи параметров нанесения, при которых происходит осаждение диоксида кремния с максимальной скоростью. Проведены эксперименты, подтверждающие теоретические расчеты.
机译:氩气中硅的反应高频(HF)磁控溅射过程建模。 理论上实质地证实了应用参数之间的关系,其中二氧化硅以最大速度沉淀。 确认理论计算的实验。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号