ZnS薄膜上のN2H4濃度の影響

摘要

化学浴沈積法（CBD）によってZnS薄膜がガラス板に沈積され，その薄膜の形態，構造及び光学的性質が光学顕微鏡，XRD及びnkd分光光度計によって研究された．N2H4濃度の上昇で基材表面の活性点数が変わり，薄膜の粒子径は小さくなる結果を示した．同時に，活性点の均一性も改良された．zn~(2+)の前駆複合体の解析，三元複合体の安定定数及びその計算，複合体の立体障害との水素結合に関連して，3種の前駆物質，例えばZn（NH3）_4~(2＋)，Zn（NH3）x（N2H4）y~(2＋)及びZn（NH3）_3~(2+)があり，それは活性点の数，分布及びN2H4濃度上昇で薄膜の均一性に影響する．