静電分級装置によるナノ粒子とイオンの測定

摘要

近年のエアフィルター技術の進歩により，外気からの汚染微粒子の流入による半導体·液晶の歩留まり低下の問題はほぼ解決されたと言える．それに対し，フィルターで捕集されずに流入するガス状汚染物質（Non－Particulate Airborne Molecular Contaminants）の振る舞いに現在大きな関心が寄せられている．同時に，半導体·液晶製造装置内での微粒子の発生および沈着·再飛散の評価も重要となっている．とくに，大きさが10nm以下のシングルナノメータのナノ粒子は，ガスのイオン化や化学反応により容易に生成され，その計測および動力学的挙動の評価は非常に重要であり，1）各種のクラスター状汚染物質のフィルターによる捕集，2）半導体薄膜製造装置内でのクラスターおよびナノ粒子の生成と薄膜への影響，3）大気エアロゾルの発生初期へのイオンクラスターの寄与，などと関連して非常に注目されている．ここでは，ナノ粒子およびイオンクラスターの計測，電離作用およびイオンの発生に関して最近の研究を中心に述べる．