旭化成イーマテ、ArF露光対応ペリクル上市／生産能力倍増強

摘要

旭化成イーマテリアルズは、半導体向けのArF（フツ化アルゴン）露光対応ペリクル（フォトマスク防塵保護膜）を上市すると同時に、延岡支社（宮崎県延岡市）の半導体用途ペリクルの生産能力を倍の年産22万トンに増強した。今回上市したArF露光対応ペリクルは高い耐久性と透過率を得られる膜設計になっているほか、高いクリーン化技術によって異物を最小限に抑制することが可能。またリソグラフィ工程の歩留まり向上にも貢献する。