JSR、ノントップコート自己架橋型ArFフォトレジスト開発

摘要

JSRは、回路線幅22nm世代（ハーフピッチ32nm）以降の次世代半導体製造に適用されるダブルパターニング用材料として、トップコートが不要な自己架橋型ArF（フッ化アルゴン）フォトレジストを開発し、線幅26nmハーフピッチの加工に成功したと発表した。