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SiC利用の期待高まる

机译:期望SIC使用

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摘要

高純度塩化水素(5N以上)の10年需要は前年比9%増の240tだった推定される。11年も同様の傾向で推移すると見られる。主力のアルミエッチング向け、シリコンウエーハのエピタキシャル成長向けと光ファイバー用の回復が影響したと見られる。用途はシリコン半導体のドライエッチング(シリコン、アルミ)の他、シリコンウエーハのエピタキシャル成長、エビ炉のクリーニング用である。
机译:需求10年的高纯度氯化氢(5 n或更多)估计比上一年增加了240t的9%。 预计11年的趋势将处于同样的趋势。 预计它已经受到硅晶片外延生长的影响,以及用于主铝蚀刻的光纤的回收。 该应用是用于干蚀刻硅半导体(硅,铝),硅晶片的外延生长,虾炉的清洁。

著录项

  • 来源
    《ガスレビユ—》 |2011年第712期|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 工业气体;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-19 22:01:47

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