ПОСЛОЙНЫЙ СТУПЕНЧАТЫЙ МЕХАНИЗМ РОСТА ФОТОННО-КРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ОПАЛОВЫХ ПЛЕНОК ПРИ ВЫРАЩИВАНИИ ИХ МЕТОДОМ ПОДВИЖНОГО МЕНИСКА

摘要

При создании функциональных фотонно-кри-сталлических материалов наиболее практичным является вариант использования опаловых регу-лярных структур в виде тонких пленок оптиче-ского качества, осажденных на широком поддер-живающем субстрате (подложке).