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机译:Fe / TiN人工多层膜对陷阱氢位的分析。
机译:人工生产的Fe / TiN多层膜俘获氢的位置分析II。
机译:(S190)使用Fe / TiN人工多层膜分析陷阱氢的位置第7部分
机译:(S027_1)使用Fe / TiN人工多层膜分析陷阱氢的位置第7部分
机译:氢气对人工铁/氮化物多层薄膜界面的陷阱行为
机译:查看使用高度多态性重复DNA序列进行的大鼠染色体连锁分析的利用率统计数据
机译:利用缓慢电子撞击产生的氮等离子体低温形成氮氧化硅膜,并将其应用于栅极绝缘膜