ОПТИМИЗАЦИЯ ОСНАСТКИ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ ПРИ ИЗГОТОВЛЕНИИ ОПТИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ

摘要

При промышленном изготовлении многослойных оптических покрытий существенное значение имеет равномерность нанесения оптических пленок на большие по размеру детали или кассеты с большим количеством подложек. В настоящей статье рассмотрены зависимости геометрических параметров оснастки вакуумной установки, обеспечивающие наилучшую однородность по толщине осаждаемого слоя по поверхности крупногабаритных деталей. Показано существование оптимального набора геометрических параметров вакуумной оснастки для получения наилучшей равномерности осаждаемого слоя. При некотором взаимном соотношении величин этих параметров неравномерность по толщине нанесенной пленки может не превышать 10~(-4)4-10~(-6) на всей поверхности подложки.