Влияние условий ударно-волнового воздействия плазмы на структуру и токонесущую способность многослойных высокотемпературных сверхпроводящих лент

摘要

Исследовано влияние ударно-волнового воздействия (УВВ) на структуру и критические токи многослойных высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП) лент фирмы ЕАS-Е НТS (VАС). УВВ осуществляли с использованием установки типа плазменный фокус (ПФ). Установлено, что в зависимости от условий УВВ - расстояния от источника плазмы (анода ПФ) и количества ударно-волновых импульсов достигается повышение критического тока на 20% и более, как в собственном магнитном поле, так и в магнитных полях в интервале 0,5 - 2,5 Тл. В магнитных полях более 3 Тл эффект повышения критического тока не наблюдается. Микроструктурные исследования выявили как уплотнение, так и разрушение отдельных ВТСП прослоек в зоне удара в зависимости от условий УВВ. Наиболее сильная деградация структуры и критического тока лент проявляется на образцах, обработанных на расстояниях 25 - 30 мм от анода ПФ. При увеличении расстояния до 35 - 65 мм критический ток повышается и превышает исходные значения необработанных лент (75 - 85 А). После УВВ фазовый состав ВТСП прослоек по данным рентгено-фазового анализа (РФА) практически не изменяется. Толщина лент в местах нанесения ударов в зависимости от количества ударов и расстояния от анода может уменьшаться за счет уплотнения и возрастать из-за разбухания ленты.