Повышение инжекционной и радиационной стойкости наноразмерных диэлектрических пленок МДП-приборов

摘要

Исследованы режимы инжекционно-термической обработки структур металл - диэлектрик -полупроводник (МДП). Показано, что инжекционно-термическая обработка (ИТО) позволяет выявить и исключить структуры с грубыми дефектами изоляции и зарядовыми дефектами, при этом практически не снижается ресурс работы приборов на основе МДП-структур. Установлено, что проведение ИТО позволяет повысить инжекционную и радиационную стойкость наноразмерных диэлектрических пленок МДП-приборов за счет их модификации.