Злектронно-лучевая обработка керамики

摘要

Показана возможность компенсации накопленного в дизлектрической мишени заряда при злектронно-лучевой обработке в форвакууме за счет тока ионов, образующихся в объемном разряде между отрицательно заряженной поверхностью мишени и заземленными стенками вакуумной камеры. Продемонстрирована возможность злектронно-лучевой плавки и сварки керамических материалов.