半導体製造装置におけるパーテイクル対策

摘要

半導体製造装置で発生するパーティクルは様々な異なる挙動をもつため、装置構成やプロセス条件に対応したパーティクル対策が必要である。半導体製造の量産現場においてパーティクル汚染を防止するためには、実際の量産条件でパーティクル挙動を可視化し、解析することにまって対策を施していかなければならない。しかし、量産ラインの半導体製造装置にパーティクル可視化システムを搭載することはプロセス影響やコスト面で障壁が高く、製造装置の設計段階からパーティクル挙動に関して検討していくことが重要である。