Описывается установка для исследования электронно-лучевой очистки промышленных газов от газообразных токсичных примесей, главное отличие которой от аналогов состоит в. применении концентрированных электронных пучков. Основные параметры установки: уровень примесей SO{sub}2 - до 0.2%,NO{sub}x - до 0.05%; начальная температура обрабатываемого газа 20-150℃; производительность установки по газу - до 50 л/с, энергия пучка электронов 80-100 кэВ; ток пучка - до 20 мА; доза облучения - до 100 кГр.
展开▼
