ВЛИЯНИЕ РАДИАЛЬНОГО ПРОФИЛЯ ОБРАТНОГО ПЛАЗМЕННОГО ТОКА НА ДИНАМИКУ РЕЗИСТИВНОЙ ШЛАНГОВОЙ НЕУСТОЙЧИВОСТИ РЕЛЯТИВИСТСКОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА, РАСПРОСТРАНЯЮЩЕГОСЯ В ПЛОТНОЙ ГАЗОПЛАЗМЕННОЙ СРЕДЕ

摘要

Исследована задача о влиянии обратного плазменного тока с характерным радиусом, отличным от соответствующего радиуса плотности тока релятивистского электронного пучка, на динамику резистивной шланговой неустойчивости пучка. Для указанного случая получены уравнения для линейной стадии развития неустойчивости. Показано, что в случае более широкого в радиальном направлении (по сравнению с пучком) обратного плазменного тока имеет место заметное ослабление резистивной шланговой неустойчивости.