НОВЫЕ СОПОЛИМЕРЫ ДИАЛКИЛФУМАРАТОВ С ПРОИЗВОДНЫМИ НОРБОРНЕНА ДЛЯ СУБ-0.2 мкм ЛИТОГРАФИИ НА ДЛИНЕ ВОЛНЫ 193 нм: СИНТЕЗ, ТЕРМО- И ФОТОХИМИЧЕСК

摘要

Применение оптической литографии для по-лучения структур наноразмерного масштаба в по-следние годы привело к интенсивному развитию литографических процессов с использованием глубокого ультрафиолетового излучения. В свя-зи с этим особый интерес представляет литогра-фия, основанная на излучении 193 нм ArF экси-мерного лазера [1-3]. Такая литография, которая в ряде стран в ближайшие годы выходит на про-мышленный уровень, позволяет получать микро-схемы с топологическими элементами шириной 0.18-0.13 мкм.