Анализируя этот процесс и проводя аналогию с радиационным воздействием на кинетику процесса растворения щелочно-галоидных кристаллов [1], мы выдвигаем новую обобщенную концепцию о закономерностях связи радиационной устойчивости кислородсодержащих стекол с химической устойчивостью по отношению к различным агрессивным средам.
展开▼