机译:碳纤维增强碳基材上钨涂层中的碳化物形成
Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, ul. Wotoska 141, 02-507 Warsaw, Poland;
Max-Planck-Institut fur Plasmaphysik, EURATOM Association, Boltzmannstra sse 2, D-85748 Garching, Germany;
National Institute for Laser, Plasma and Radiation Physics, EURATOM-MEdC Association, Str. Atomistilor 409, 077125 Magurele, Bucharest, Romania;
Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, ul. Wotoska 141, 02-507 Warsaw, Poland;
Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, ul. Wotoska 141, 02-507 Warsaw, Poland;
carbides; precipitation; molybdenum carbide; diffusion; electron diffraction; transmission electron microscopy; degradation; plasma damages;
机译:由BCL3-CH4-H-2,碳基质上的混合物以及碳纤维增强的Al复合材料中的碳化硼形成
机译:由BCL3-CH4-H-2,碳基质上的混合物以及碳纤维增强的Al复合材料中的碳化硼形成
机译:含钨类金刚石碳涂层中碳化钨形成的研究
机译:碳纤维增强碳 - 碳化硅复合材料的摩擦表面损伤(C_F / C-SIC)
机译:在碳化硅上形成碳化物衍生的碳涂层
机译:射频磁控溅射碳化硅和钨hen基薄膜热电偶保护涂层的热电特性
机译:碳纤维增强碳基底上钨涂层中碳化物的形成
机译:镍基催化剂在钨基底上的电沉积及其对碳纳米线圈和微米线圈形成的影响。