机译:纳米压痕和电子能量损失谱研究反应性气体脉冲沉积Ti0.54Al0.46 / Ti0.54Al0.46N多层膜
Univ Haute Alsace, EA 4365, Lab Phys & Mecan Text, F-68093 Mulhouse, France;
Univ Haute Alsace, EA 4365, Lab Phys & Mecan Text, F-68093 Mulhouse, France;
Univ Haute Alsace, EA 4365, Lab Phys & Mecan Text, F-68093 Mulhouse, France;
Univ Franche Comte, CNRS, UMR 6174, FEMTO ST MN2S, F-25211 Montbeliard, France;
Univ Franche Comte, CNRS, UMR 6174, FEMTO ST DMA, F-25030 Besancon, France;
Univ Strasbourg, Inst Phys & Chim Mat Strasbourg, CNRS, UMR 7504, F-67087 Strasbourg, France;
Univ Haute Alsace, EA 4365, Lab Phys & Mecan Text, F-68093 Mulhouse, France;
TiAl-based alloyitride multilayer films; Reactive gas pulsing process; Nano-indentation; X-ray diffraction; Electron energy-loss spectroscopy;
机译:利用电子能量损失谱研究与氧有关的缺陷和原子层沉积的HfO_2薄膜的电性能
机译:反应气体脉冲溅射沉积W_3O / WO_3和TiO / TiO_2周期性多层薄膜的结构分析
机译:电子能量损失谱研究掺杂有机薄膜的电子激发光谱
机译:脉冲激光沉积超导氮化铌薄膜的纳米表征研究
机译:通过反应电子束物理气相沉积(EB-PVD)沉积的微米厚氧化ado膜的工艺-结构-性能关系
机译:贫铀上沉积的Ti / TiN多层膜的微动磨损行为和光电子能谱(XPS)分析
机译:电子能量损失谱研究掺杂有机薄膜的电子激发光谱