Department of Electronic and Electrical Engineering, University College London, Torrington Place, London WC1E 7JE, UK;
机译:R.F种植的铒掺杂硅纳米晶体。溅射方法:氧气与硅之间的竞争获得erbium
机译:金属蒸气真空电弧离子源注入制备掺-富硅二氧化硅/硅薄膜
机译:从硅掺杂铒掺杂ZnO膜的金属绝缘体 - 半导体结构发光装置随机激光到铒相关电致发光的进化
机译:硅化Er结晶度对硅化and与n型硅之间低势垒接触的影响
机译:共掺杂杂质对硅中er的晶格位置的离子束研究。
机译:电信波长的Low低掺杂硅晶体管中的室温共振光电流
机译:掺富硅氧化硅中发光动力学的速率方程模型
机译:铌和一些钇 - 铒 - 锑合金单晶在1.2和300°K之间的磁性