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Samsung's Kim Claims No Limit to Scaling

机译:三星的金声称扩大规模没有限制

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摘要

The ever-optimistic Kinam Kim of Samsung Electronics stated that some people in the industry say the limit of scaling is -5 nm, to which he said, "I do not agree." He is optimistic that EUV double patterning (NA=0.25, 0.32, then 0.6) will take patterning to several nanometers in 2014. "Using this kind of technology, I believe we will print down to several nanometer." His presentation of the fundamental laws of physics (based on Boltzmann distribution and Heisenberg's uncertainty principle) predicts a limit of scaling around 1.2 nm. Kim, executive vice president and general manager of Samsung's Semiconductor R&D Center and Samsung Fellow presented at IMEC's Technology Forum in Brussels, Belgium, in June.
机译:三星电子(Samsung Electronics)一直持乐观态度,该行业的一些人说缩放比例的极限是-5 nm,他说,“我不同意。”他对EUV双重图案化(NA = 0.25、0.32,然后0.6)持乐观态度,他将在2014年将图案化扩大到几纳米。“使用这种技术,我相信我们将打印到几纳米。”他对物理基本定律的介绍(基于玻尔兹曼分布和海森堡的不确定性原理)预测了缩放的极限在1.2 nm左右。三星半导体研发中心和三星研究员执行副总裁兼总经理Kim于6月在比利时布鲁塞尔举行的IMEC技术论坛上作了演讲。

著录项

  • 来源
    《Semiconductor International》 |2009年第8期|12-12|共1页
  • 作者

    Laura Peters;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 23:12:16

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