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Spectrograph for Plasma Monitoring

机译:等离子体监测光谱仪

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摘要

The SD1024F Series of spectro-graphs for plasma process monitoring and control supports applications including process development, fault detection, troubleshooting, leak testing, wet clean recovery and endpoint detection. The SpectraView software assists with rnpeak identification using Line ID, rapid trend line and spectra viewing. The software also includes features for real-time process control. The system includes instruments with spectral coverage from 200-800 nm and from 900-1700 nm. There are different ranges of resolution and performance available.
机译:用于等离子体过程监控的SD1024F系列光谱仪支持以下应用,包括过程开发,故障检测,故障排除,泄漏测试,湿法清洁回收和终点检测。 SpectraView软件使用线ID,快速趋势线和频谱查看来协助rnpeak识别。该软件还包括用于实时过程控制的功能。该系统包括光谱覆盖范围从200-800 nm和900-1700 nm的仪器。有不同的分辨率和性能范围。

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  • 来源
    《Semiconductor International》 |2009年第4期|29-29|共1页
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  • 收录信息 美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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