スクリーンの最新半導体洗浄装置と洗浄技術さらなる微細化に対応する様々な新機能を搭載生産効率・洗浄性能の向上と環境負荷の低減を実現

摘要

現在，45nm世代のデバイス生産が本格的に立ち上がろうとしている。その中で洗浄プロセスは，①微小パーティクルを除去しつつもパターン倒壊をなくして洗浄，乾燥すること，②エッチングロス（酸化膜成長）を最小限に留めながら，レジスト剥離，洗浄を行うこと，③メタルゲート/high-kの腐食防止，low-kのk値変化を抑制して洗浄することの三つの課題が重要と考えられている。大日本スクリーン製造は，これらの課題に対して，次世代型300mm洗浄装置「FC-3100」「SU-3100」「SS-3100」の3機種をラインナップ。時代と共鳴し，次代ヘの可能性を奏でる三重奏（TRIO）で不可能と思われた洗浄技術の限界に挑戦する。