半導体産業用標準ガスの開発CF_4、C_2F_6濃度標準ガス（窒素希釈、0.5%濃度レベル）

摘要

パーフルオロカーボン（PFCs）は、半導体産rn業などではエッチングガスやCVDクリーニンrnグガスとして大量に利用されています。また、rnこれらのガスは強力な温室効果ガスであることrnから、京都議定書において2008～2012年の間rnに1990年の排出量に対して6%削減することがrn定められています。