首页> 外文期刊>精密工学会誌 >ナノシートのAFMプロtブによる機械的微細除去加エ(第2報): 高精度溝加工機構と最適加工条件の検討
【24h】

ナノシートのAFMプロtブによる機械的微細除去加エ(第2報): 高精度溝加工機構と最適加工条件の検討

机译:通过AFM探针对纳米片进行机械精细去除(第二次报告):检验高精度切槽机制和最佳加工条件

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

現在,微細加工技術として走査型ブロープ顕微鏡(SPM)装置rnを用いたnmスケールの機械的微細除去加工が注目されている.rn本研究では,バイレイヤ厚さ2nm単位で扱うことが可能なシrnート状構造を有する層状化合物に着目し,ナノスケールの高精rn度溝加工を目指した,原子間力顕微鏡(AFM)のプロープを用rnいた除去加工を行っている.前報ではナノシートに対する機械rn的除去加工時の加工特性として,2nmオーダで深さ方向への加工rn制御が可能であることや,nmオーダの加工では表面での結晶異方rn性が顕著に表れることを報告した.
机译:当前,使用扫描探针显微镜(SPM)装置rn的纳米级机械细去除处理作为细处理技术受到关注。在这项研究中,我们重点研究了可处理双层厚度为2 nm的具有类似硅烷结构的层状化合物,并针对纳米级高精度rn度凹槽加工,原子力显微镜(AFM)我们正在使用探针执行删除处理。在以前的报告中,作为纳米片的机械rn去除处理期间的处理特性,可以将深度rn的处理rn控制在2 nm的数量级,并且在nm数量级的处理中,表面上的晶体各向异性rn变得显着。我报告说它出现了。

著录项

  • 来源
    《精密工学会誌》 |2008年第6期|611-615|共5页
  • 作者单位

    中央大学大学院(キヤノン株式会社);

    中央大学大学院(東京都文京区春日1-13-27);

    中央大学大学院(東京都文京区春日1-13-27);

    中央大学;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号