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机译:稀铁磁半导体中的补偿,间隙缺陷和铁磁性
Laboratoire Louis Neel, 25 Avenue des Martyrs, Boite Postale 166, 38042 Grenoble Cedex 09, France;
magnetic semiconductors; Ⅲ-Ⅴ semiconductors; Ⅲ-Ⅴ and Ⅱ-Ⅵ semiconductors; magnetoelectronics; spintronics: devices exploiting spin polarized transport or integrated magnetic fields;
机译:III-M-V稀铁磁体半导体的空穴补偿效果
机译:氮化镓基铁磁稀磁半导体通过载流子共掺杂法增强Tc的尺寸补偿
机译:通过缺陷工程在稀磁半导体中的铁磁性:N掺杂的BaTiO_3
机译:ZnMNO稀铁磁体半导体的铁磁共振研究
机译:锰掺杂铁磁II-VI和III-V稀磁半导体(DMS)的磁和磁传输研究。
机译:铁磁半导体和稀磁半导体中的载流子状态-相干势法
机译:稀释的补偿,间隙缺陷和铁磁性 半导体