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机译:一种新的室温诱导化学蚀刻(RTCE)技术,用于扩大Lexan聚碳酸酯SSNTD中的裂变径迹
Radiochemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai 400085, India;
Radiochemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai 400085, India;
Radiochemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai 400085, India;
lexan SSNTD; new etchant; room temperature-induced chemical; etching; bulk etch rate; track etch rate; detection efficiency;
机译:红外辐射对lexan轨道检测器的轨道蚀刻参数与252cf源的裂变片段的影响
机译:铀浓缩对含铀颗粒聚碳酸酯裂变径迹检测器蚀刻速率的影响
机译:使用Lexan聚碳酸酯的Alpha粒子光谱法,通过乙二胺溶液和电化学蚀刻的组合层去除
机译:离子刻蚀技术制备高纵横比纳米多孔聚碳酸酯薄膜
机译:对南极半岛南部的热构造历史的新见解:(铀-T-mar)/氦和西北帕尔默地和亚历山大岛的裂变径迹热年代学结果。
机译:冷冻刻蚀和化学固定技术制备的铁氧化铁杆菌细胞膜的电子显微镜观察
机译:化学蚀刻聚碳酸酯中离子径迹的初始阶段的研究