机译:切片发射率,投影发射率和SASE FEL辐射的特性
ENEA Unita Tecnica Sviluppo di Applicazioni delle Radiazioni, Laboratorio Modellistica Matematica, Centro Ricerche Frascati, C.P. 65-00044 Frascati, Rome, Italy;
ENEA Unita Tecnica Sviluppo di Applicazioni delle Radiazioni, Laboratorio Modellistica Matematica, Centro Ricerche Frascati, C.P. 65-00044 Frascati, Rome, Italy;
ENEA, Unita Tecnica Sviluppo di Applicazioni delle Radiazioni, Laboratorio Sorgenti di Radiazioni, Centro Ricerche Frascati, C.P. 65-00044 Frascati, Rome, Italy;
ENEA Guest, Italy;
ENEA Guest, Italy;
free electron laser; SASE; phase space; electron beam transport; slice emittance; projected emittance;
机译:切片发射率和投影发射率
机译:切片发射率和投影发射率
机译:来自SASE FEL的辐射的统计特性,在有和没有起伏渐细的情况下在饱和后状态下运行
机译:使用光学过渡辐射干涉测量在Jefferson Lab Fel上的RMS辐射测量
机译:使用光学跃迁辐射对杰斐逊实验室自由电子激光器的发射率进行测量。
机译:PETRA IV:DESY的超低发射源项目
机译:VUV和软X射线自由电子激光器FLASH(以前的VUV-FEL)是DESY \ ud的用户设施 (汉堡)。为了优化设施的性能,\ ud的准确表征 电子束特性至关重要。横向投影发射率,重要参数之一 表征电子束质量的方法是使用具有光学\ ud 过渡辐射监测仪。 1 udC光束的归一化均方根发射率低于2 mmmrad 测量。在本文中,我们描述了实验设置,数据分析方法以及当前\ ud 实验结果。