机译:电子量与测量的DIII-D H模式轮廓的基于古古典的基座模型预测的比较
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Department of Engineering Physics, University of Wisconsin, Madison, WI 53706-1609, USA;
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Department of Physics, University of California-San Diego, La Jolla, CA, USA;
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机译:DIII-D ELMy和ELM抑制的H模式操作过程中的SOL和基座密度分布演变
机译:DIII-D中不同限制条件下的H型基座比较
机译:JT-60U和DIII-D H型等离子体的边缘基座参数比较
机译:偏转器热通量的上游T_E曲线的比较及其对DIII-D H模式等离子体溶胶的平行和垂直运输的影响
机译:使用基于物理模型的局部刀具磨损曲线预测。
机译:三种基于动力学的药代动力学模型对动态MR成像测量的造影剂分布预测的比较
机译:使用Co Plus反中性束注入技术在DIII-D中静态H模式放电的边缘基座控制