机译:净直流对射频护套性能的影响:仿真与交叉码比较
Lodestar Research Corporation 2400 Central Ave. Suite P-5 Boulder CO 80301 United States of America;
University of Illinois at Urbana-Champaign 104 S. Wright St Urbana IL 61821 United States of America;
University of Illinois at Urbana-Champaign 104 S. Wright St Urbana IL 61821 United States of America;
Tech-X Corporation 5621 Arapahoe Avenue Suite A Boulder CO 80303 United States of America;
ICRF; sheath; simulation; impedance; rectification; tokamak;
机译:射频,直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子传输和晶体学取向特征
机译:射频,直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的高透明导电Al掺杂ZnO多晶线膜的载流子迁移率:晶界效应和晶粒体积中的散射
机译:高频混合直流和射频磁控溅射制备LiNi_(0.7)Co_(0.15)Mn_(0.15)O_2薄膜的结构和电化学性能
机译:通过数学模拟直接比较具有铁芯和空心转子的脉冲电流压缩发生器的性能
机译:激光诱导荧光在射频等离子体鞘中离子动力学的相分辨测量。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:自洽射频波传播和外围直流等离子体偏置:“宽鞘”渐近区域的简化三维非线性处理
机译:射频驱动无碰撞护套的半解析离子电流模型