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摘要

SiC半導体の国際学会「ICSCRMrn2007」を取材しました(pp.33-45)。そrnこで目立ったのが日本メーカーの元rn気の良さです。従来,海外メーカーrnはMOSFETの実用化が難しいためrnに,比較的ハードルが低いJFETにシrnフトし始めていました。ところが,三rn菱電機やロームの成果に触発されてrn「海外勢が再びMOSFETに力を入れrn始めた」(SiCデバイス技術者)とのこrnとです。基栃やプロセス装置が国内rnメーカーから供給される環境も整っrnてきました。
机译:我们报道了SiC半导体国际会议“ ICSCRMrn2007”(第33-45页)。脱颖而出的是日本制造商的良好精神。传统上,海外制造商已经开始转向壁垒较低的JFET,因为很难将MOSFET投入实际使用。但是,他受到Sanrishi Ryodenki和ROHM的成就启发,并表示:“海外公司已开始再次努力将MOSFET投入使用”(SiC器件工程师)。国内制造商提供Motochi和加工设备的环境也得到了改善。

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  • 来源
    《日経マイクロデバイス》 |2008年第272期|140-140|共1页
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