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PA Termination Impedance Selection Utilizing Temperature Contours

机译:利用温度轮廓选择PA端接阻抗

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摘要

A PA design technique was presented, which focuses on control of device temperature rise by careful selection of the termination impedance. Thermal contours are assembled from conventional load pull data which is post processed. A measured 1.2 to 1.9rnGHz, 60 W amplifier design demonstrates correlation with the method. Circuit measurement and simulation with validation requires co-simulation with EM and modeling of all discrete elements.
机译:提出了一种PA设计技术,该技术专注于通过仔细选择端接阻抗来控制器件的温度上升。热轮廓是根据常规的负载拉力数据组装而成的,该数据经过后期处理。测得的1.2至1.9rnGHz,60 W放大器设计证明了与该方法的相关性。带有验证的电路测量和仿真需要与EM共同仿真,并对所有离散元件建模。

著录项

  • 来源
    《Microwave Journal》 |2012年第7期|p.889092949698|共6页
  • 作者

    Alan Victor; Walter Nagy;

  • 作者单位

    Nitronex Corp., Durham, NC;

    Nitronex Corp., Durham, NC;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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