Kopf-an-Kopf-Rennen von Extrem-UV und Lichtoptik

摘要

In der Halbleiterindustrie zwingt der ungebrochene Trend zu immer kleineren und kompakteren Strukturen die Maskenhersteller in eine Innovationsoffensive. Ein ?K?nigsweg" ist derzeit aber noch nicht erkennbar. So wird einerseits das baldige Ende der Lichtoptik prophezeit, auf der anderen Seite ist der Einstieg in die Lithographie mit extrem kurzwelligem UV-Licht (EUV) nach wie vor mit gro?en technologischen Herausforderungen verbunden. Den ?Anh?ngern " der Lichtoptik ist es in den letzten Jahren mit physikalischen Tricks wiederum gelungen, deren Grenzen in Bereiche auszudehnen, die man früher nicht für m?glich gehalten h?tte.