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机译:振动流化床中TiO_2亚微米粉体上硅纳米点的化学气相沉积
Laboratoire de Genie Chimique, UMR CNRS 5503, Universite de Toulouse, ENSJACET/INPT, 4 alike Emile Monso, BP 74233, 31432 Toulouse Cedex 4. France;
CEMES, UPR CNRS 8011, UPS-Toulouse, 29 rue Jean Marvig, 31055 Toulouse Cedex 4, France LEPMI, UJF Grenoble 1, LEPMI, 1130, rue de la Piscine BP 75 38402 - Saint-Martin d'Heres Cedex, France;
rnCEMES, UPR CNRS 8011, UPS-Toulouse, 29 rue Jean Marvig, 31055 Toulouse Cedex 4, France;
rnLaboratoire de Genie Chimique, UMR CNRS 5503, Universite de Toulouse, ENSJACET/INPT, 4 alike Emile Monso, BP 74233, 31432 Toulouse Cedex 4. France;
chemical vapor deposition; titanium dioxide; silicon; transmission electron microscopy; raman spectroscopy; infra-red spectroscopy;
机译:通过在大气压下在流化床反应器中化学气相沉积获得的TiN / SiNx亚微米多层涂层(AP / FBR-CVD)
机译:高密度钨粉上硅的流化床化学气相沉积
机译:在流化床中对宏观和亚微米粉末进行硅化学气相沉积
机译:流化床化学气相沉积法制备的少量石墨烯粉的层间相互作用和无序
机译:钻石在火焰和流化床中的化学气相沉积。
机译:通过引发的振动基材的化学气相沉积对粉末的共形涂层
机译:振动流化床中TiO2亚微粉上硅纳米点的化学气相沉积 ud