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机译:NiO掺杂的氧化钇稳定的氧化锆的相稳定性和电性能
The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka, 567-0047, Japan;
cubic zirconia; ionic conductivity; phase stability; electrical properties; raman spectroscopy; nickel oxide; high-temperature stability;
机译:研磨/抛光对氧化钇稳定氧化锆的机械,相位稳定性和细胞粘附性能的影响
机译:通过空气等离子体喷涂到Ni基超合金上沉积的氧化钇稳定氧化锆(YSZ)涂层的热性能和相位稳定性
机译:纳米氧化钇稳定氧化锆薄膜在500 keV Xe〜(6+)离子辐照下的相稳定性,晶粒生长和光致发光性能
机译:分散的TRU废物的氧化钇稳定的氧化锆形式的相稳定性和力学性能
机译:大块和薄膜氧化钇稳定的氧化锆-二氧化钛的电性能。
机译:纳米压痕法评价亚稳氧化钇稳定的氧化锆的相变和力学性能
机译:二氧化硅掺杂的3摩尔%氧化钇稳定的四方氧化锆的电学性质
机译:纳米氧化钇稳定氧化锆的粒度依赖性热传输特性